晶片與半導體 · 趨勢觀察 (貼文原發 07-20~21)
本篇出自 2026年8月5日 晨報
同一位評論者主張中國先進製程的重點在擴散面——不只中芯國際(SMIC,中國最大晶圓代工廠),會有多家晶圓廠具備 N+3(中芯第三代 7 奈米級製程)(Teortaxes,07-20)。這句話有一個真實的交叉點:分析機構 SemiAnalysis 六月的實體拆解量到,中芯 N+3 的電晶體密度確實追上台積電上一世代的 N6(SemiAnalysis,2026-06)。但同一份拆解的主張方向相反:這個密度是在買不到最新曝光設備(EUV)的情況下,用舊設備(DUV)多重曝光硬換來的,正規化密度仍明顯落後 Intel 最新製程,搭載該製程的手機晶片實際效能約等於三年前的 Android 旗艦、功耗差距更大。兩邊合讀的誠實結論:單點密度追上一個舊世代,但功耗與良率的代價未解;「多廠複製」至今零證據——廠名、時程、出處都沒有。看到中國晶片新聞時,先分清是單點突破還是可複製的產能,兩者對供給面的意義完全不同。
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